作為半導(dǎo)體清洗設(shè)備龍頭,盛美上海(688082)日前上調(diào)了公司回購價格上限。4月14日開盤后,公司股價回升,截至記者發(fā)稿,股價上漲0.62%,最新股價為102.48元/股。對于關(guān)稅沖擊,公司高管在最新業(yè)績說明會上表示,美國加征關(guān)稅對公司的影響整體可控,公司將持續(xù)推進供應(yīng)鏈的多元化布局和本土化替代。
上調(diào)回購價
4月12日公告顯示,盛美上海擬將回購價格上限由90元/股(含)調(diào)整為99.02元/股(含)。本次上調(diào)針對去年8月6日回購方案,擬使用超募資金以及自有資金進行回購,當時價格定位90元/股,回購總額在5000萬元至1億元,適時用于股權(quán)激勵或員工持股計劃?;刭彿桨笧槎聲徸h通過后1年內(nèi)。
盛美上海指出,自完成回購專用證券賬戶開立及銀行托管等相關(guān)手續(xù)起至今,公司股票價格持續(xù)超出回購方案的價格上限。因此,截至目前公司回購方案尚未實施。
股價顯示,自去年8月回購方案推出后,公司股價累計上漲18.26%;本次上調(diào)股價后,4月14日公司股價開盤穩(wěn)步上漲。
受美國實施所謂“對等關(guān)稅”影響,上周半導(dǎo)體設(shè)備板塊收跌,盛美上海4月7日大跌10.51%,報收92.6元/股,隨后逐步企穩(wěn)反彈。盛美上海IPO發(fā)行價格為85元/股。
關(guān)稅影響可控
對于最新關(guān)稅風波影響,盛美上海高管在最新業(yè)績說明會上表示,美國加征關(guān)稅對公司的影響整體可控,公司將持續(xù)推進供應(yīng)鏈的多元化布局和本土化替代;公司在海外已設(shè)有韓國研發(fā)與生產(chǎn)基地,可實現(xiàn)多元化海外供貨。
今年1月11日,盛美上海公告終止使用IPO超募資金投資“盛美韓國半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”,將募集資金用于“盛美半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”。據(jù)披露,韓國項目原計劃投入募投資金2.45億元,但最終資金并未投入,主要原因系境外投資法律制度差異導(dǎo)致監(jiān)管協(xié)議簽署延遲,全球營商環(huán)境變化,以及公司被列入“實體清單”風險。
2024年上半年全球營商環(huán)境的變化,盛美上海經(jīng)審慎評估后認為對盛美韓國進行大規(guī)模固定資產(chǎn)投資將面臨風險。2024年12月2日公司及盛美韓國被美國工業(yè)和安全局列入“實體清單”,也印證了公司前期的預(yù)判。
為規(guī)避因全球營商環(huán)境變化帶來的風險,提高募集資金使用效率,公司經(jīng)過審慎研究決定終止該韓國項目。而“盛美半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”項目主體基本完工,需加快內(nèi)部裝修和設(shè)備采購,因此決定作出上述募投項目變更調(diào)整。
在最新業(yè)績說明會上,盛美上海高管介紹,2024年10月,盛美半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心在上海臨港舉行了落成暨投產(chǎn)典禮,標志著盛美上海在提升自主制造能力和工藝研發(fā)能力方面邁出了重要一步。目前,公司已啟用A廠房,未來將根據(jù)產(chǎn)能需求適時啟用B廠房。
海外收入比下降
受益于全球半導(dǎo)體行業(yè)復(fù)蘇、公司產(chǎn)能擴展,盛美上海去年實現(xiàn)營業(yè)收入56.18億元,歸母凈利潤11.53億元,同比增長26.65%,但盈利增速有所回落。據(jù)預(yù)測,公司2025年全年營業(yè)收入將在65億至71億元之間,訂單釋放周期平均為6—8個月左右。
從收入來源來看,盛美上海來自海外的收入有所下降,而中國內(nèi)地收入同比提升。
去年公司來自中國內(nèi)地區(qū)域內(nèi)的主營業(yè)務(wù)收入為54.1億元,同比增長47.51%,主要客戶包括中芯國際、華虹集團等。相比,海外收入0.3億元,同比下降35.83%。盛美上海在年報中表示,國際市場上,公司表示與SK海力士等保持穩(wěn)定合作,將提升國際市場份額。
去年,盛美上海研發(fā)投入同比增長約27%。
對于研發(fā)進展,高管介紹,去年公司順利交付了濕法設(shè)備4000腔,推出了用于先進封裝的帶框晶圓清洗設(shè)備、適用于扇出型面板級封裝應(yīng)用的Ultra C vac-p負壓清洗設(shè)備、用于扇出型面板級封裝(FOPLP)應(yīng)用的新型 Ultra C bev-p面板邊緣刻蝕設(shè)備等。公司清洗設(shè)備產(chǎn)品Ultra C Tahoe亦取得重要性能突破,使得在中低溫硫酸(SPM)清洗工藝中,該設(shè)備可以達到獨立單片晶圓清洗設(shè)備的效果,并可減少高達75%的化學(xué)品消耗。此外,公司推出的等離子體增強原子層沉積爐管已進入中國2家集成電路晶圓制造廠,正在做更新優(yōu)化和為量產(chǎn)準備。